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微波等离子去胶机

装备简介：安动自主研发的单腔去胶装备，接纳自动三轴高精度机械手臂、微波等离子源及单片反映腔设计，基于Windows 平台的人机交流界面操作简朴，系统架构合理。装备具有占用空间。苄矢，耗材成本及运营成本低等优点。适用于半导体前后段种种光刻胶的去除。装备优势：?适用6、8寸晶圆（硅基及化合物半导体）?自适

2022 - 08 - 09